日期：2024-04-11
作者：pg电子官方网站半导体
近日，有消息称，韩国半导体制造商三星和SK海力士正进项 深造准备下单ASML的全新High-NA EUV光刻机。ASML表示，新的High-NA EUV光刻机将成为实现2纳米制程工艺的关键设备。预示着2纳米制程工艺的竞争将更加激烈。
EUV光刻机是先进制程得以延续的必备设备，ASML是全球第一大光刻机设备商，同时也是全球唯一可提供EUV光刻机的设备商，来自各大半导体厂商的订单早已堆积成山。因此，去年ASML就已经提高了两次生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光）光刻机以及90台EUV（极紫外光）光刻机。
而此次升级后的High-NA EUV光刻系统将提供0.55数值孔径，相较于配备了0.33数值孔径透镜的EUV系统，精度将更高，可以实现更高分辨率的图案化，以及更小的晶体管特征，成为实现2纳米制程工艺的关键设备。
ASML预计明年将向客户交付首台High-NA EUV光刻机,交付后，EUV光刻机将不再是最先进的设备，理论上就能够实现自由出货。
所有想要竞争2纳米市场的玩家都对这台全新的光刻机势引见 敦实必得。英特尔率先宣布订购High-NA EUV光刻机，还宣布了一个集成半导体公司（IDM 2.0）的战略，目标是重回晶圆代工市场。
台积电也表示将进展 停办2024年购买ASML的High-NA EUV光刻机，目标是依约 按照2025年量产2纳米制程工艺。
而韩国双雄三星和SK海力士也表示将加入订单大战。以三星电子为例，其现有的EUV光刻机估计花费了10亿到15亿元人民币，而High-NA EUV光刻机则估计将达到25亿元人民币，以争取结实 竣事2025年的2纳米之战中取得先机。
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